电子光学行业生产用水解决方案

应用特点：

应用范围概述：电解电容器生产铝箔及工作件的清洗、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液、显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片

达到标准纯化水标准，注射水标准、显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）集成电路用纯水水质 、国家电子级纯水标准 、美国SEMI标准四、设备特点， 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性

产水水质：

TOC＜10ppb              PARTICLE达到0.5μm≤200PCS/L  

二氧化硅SiO2＜5ppb     电阻率≥18MΩNaN（25℃）

工艺流程：

预处理→双级反渗透主机→EDI→抛光混床

工程图片：